積全像光學元件應用於光子資訊科技的研究-總計畫兼子計畫一 : 複雜波前全像之強繞射模擬模型之研究;Sub-Project One : Study of Simulation Model for Strong Volume Hologram with Complex Wavefront

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題名:	積全像光學元件應用於光子資訊科技的研究-總計畫兼子計畫一 : 複雜波前全像之強繞射模擬模型之研究;Sub-Project One : Study of Simulation Model for Strong Volume Hologram with Complex Wavefront
作者:	孫慶成
貢獻者:	國立中央大學光電科學研究中心
關鍵詞:	體積全像光學元件;強繞射;布拉格選擇性;相位轉換因子;耦合強度;IT產業;volume holographic optical element;strong diffraction;Bragg selectivity;phase transfer factor;coupling strength;IT industry
日期:	2021-12-21
上傳時間:	2021-12-23 13:26:55 (UTC+8)
出版者:	科技部
摘要:	隨著國際重量級IT產業的技術發展，我們發現，VHOE從具備觀念開始發展至今約六十年，已經悄悄地在國際最頂尖的IT公司中成為邁入下世代攜帶式裝備的關鍵元件與技術。有鑑於科技的更迭與台灣的競爭力，總計畫特別邀請在VHOE已具相當經驗的四位學者組成具有國際一流競爭實力的研發團隊。本子計畫就是在解決VHOE的發展中缺乏的精準模擬模型，本計畫雖然是科學研究，但與產業高度關聯，若能成功，不只在VHOE的研究上再次使台灣站上國際舞台，同時對於國際IT產業在發展下世代民生或是專業光電系統時有極大的助益，所發展的科技與所參與的研究人員都會為台灣IT產業尖端光電科技持續做出重大貢獻。
關聯:	財團法人國家實驗研究院科技政策研究與資訊中心
顯示於類別:	[光電科學研究中心] 研究計畫

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